分析儀器(qi)命(ming)名：全重新化合(he)物濺射儀 款(kuan)型(xing)：ETD-800
機制：二極整(zheng)流濺射
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實(shi)驗室設(she)備名(ming)字：鐵離(li)子(zi)濺射(she)儀 產品型(xing)號：ETD-900M
目的：磁控濺射
在(zai)磁控濺射(she)死，仍然(ran)的(de)運轉光(guang)電子在(zai)磁場強(qiang)度(du)(du)中獲得洛(luo)侖茲力(li)，這句話的(de)的(de)運轉點跡(ji)會發生(sheng)彎度(du)(du)因此(ci)產
生(sheng)雙(shuang)螺旋行動，其行動渠道拉(la)長，以致曾加了(le)與崗位(wei)其他氣體大(da)分子相撞(zhuang)的機會，使等鋁離子體密度單位(wei)增 加，于(yu)是磁控濺射傳(chuan)輸速度得出(chu)特別大(da)的升(sheng)高，特別不(bu)錯在較低的濺射電壓降和(he)(he)和(he)(he)氣氣壓下(xia)崗位(wei)。互相，經過了(le)屢次相撞(zhuang)而(er)缺失能(neng) 量的光學停靠陽極時(shi)，已成(cheng)低能(neng)光學，于(yu)是會使基片發熱。
ETD-800參數表：
服(fu)務器產品(pin)規格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）
電源開(kai)關標準：220V/50HZ
靶（上側工業(ye)）：50mm×0.1mm（D×H）
靶(ba)材(cai)：Au
進口真空檢(jian)樣室： 硼硅酸鹽(yan)有機(ji)玻璃 115mm×100mm（D×H）
定時執行器： zui 長時刻：3600S
自動化(hua)設備泵： 1L/S
zui 高(gao)電壓值：-1200 DCV
ETD-900M性(xing)能指標：
主機電源樣式(shi)：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上(shang)半部電極材料）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（配有）
圖紙室：硼硅(gui)酸(suan)鹽(yan)安全玻璃(li) 160mm×120mm（D×H）
靶材(cai)尺寸大小：Ф 50mm
; 正(zheng)空技巧表： zui 高(gao)正(zheng)空度：≤ 4X10-2 mbar
陽離子電壓表： zui 大電壓：50mA
要(yao)定期(qi)器：zui 長期(qi)限：0-360S ?
徵型(xing)真的空氣閥(fa)：可連(lian)接(jie)方式φ 3mm 連(lian)接(jie)管
可(ke)通入有機(ji)廢氣(qi)氣(qi)體： 幾種
zui 高工(gong)作電壓： -1600 DCV ?
; 機械裝備(bei)泵(beng)：細則配制 2L/S（國產(chan)a VRD-8）
特征與適用范圍：
ETD-800應用場(chang)景：
不適使用在電(dian)鏡(jing)實驗室內室的掃(sao)描機(ji)電(dian)子技術(shu)透射電(dian)鏡(jing)（SEM）仿品制作。
特征：
需要借助換掉有所不同(tong)的靶材（金、鉑、銀等），以到細顆(ke)粒的耐磨涂(tu)層。
系統(tong)自(zi)動式(shi)工作，食(shi)用(yong)簡便(bian)。
ETD-900M貸(dai)款用途：
應使用于電鏡實驗(yan)室(shi)的復印機掃(sao)描電子(zi)光學(xue)顯微鏡（SEM）仿品分離純化，非導體原材(cai)料實驗(yan)工業(ye)設計(ji)。
特性：
1、簡單、經濟性(xing)、準確、外觀設計別致。
2、可調(diao)節為節濺射(she)功率和(he)真(zhen)空體室壓強以把握(wo)鍍一層薄薄的膜的強度(du)和(he)顆(ke)料的尺寸大小。
3、SETPLASMA 手動啟(qi)用控制鍵可提前設立好(hao)壓(ya)強和濺射(she)電(dian)流值禁(jin)止對膜造并(bing)不要的 損 傷(shang)。
4、真(zhen)空系(xi)統(tong)環境(jing)護(hu)理可預防真(zhen)空系(xi)統(tong)環境(jing)過低會導致設施燒(shao)壞。
5、同時能(neng)能(neng)采用根換差(cha)異的靶(ba)材(cai)（金、鉑(bo)、銥、銀(yin)、銅等），以可達更細顆粒(li)的涂覆。
6、能夠 通入不一的惰性甲烷(wan)氣體(ti)以做到(dao)更(geng)澄凈的涂覆。
